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        技術(shù)文章/ Technical Articles
        
        
        
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        產(chǎn)品分類(lèi) / PRODUCT
        
    
         
		
        
        	
        
         	 	
        
          		
        
         		
        
       		
        
   		 
        
        
    
        

        
 
    
        
    
        
    	
        
        	
        半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備
        
            
        更新時(shí)間：2024-09-23      瀏覽次數(shù)：627
        
            
        
            	
        半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備
        半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備
        波長(zhǎng)185納米、254納米
        目的清潔/修改
        行業(yè)半導(dǎo)體制造
        待安裝設(shè)備半導(dǎo)體清洗設(shè)備
        UV照射設(shè)備用于清洗半導(dǎo)體晶圓。紫外線照射會(huì)產(chǎn)生臭氧，去除晶圓表面的有機(jī)物。半導(dǎo)體晶圓紫外臭氧清洗設(shè)備可用于原型/開(kāi)發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機(jī)和開(kāi)發(fā)機(jī)是半自動(dòng)的，生產(chǎn)能力低，而量產(chǎn)機(jī)是自動(dòng)化機(jī)。
        UV照射設(shè)備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當(dāng)185nm紫外線被氧氣吸收時(shí)，產(chǎn)生臭氧（O3）并產(chǎn)生活性氧。
        技術(shù)文件《審查半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的紫外線照射設(shè)備以實(shí)現(xiàn)成本降低》

        這個(gè)應(yīng)用程序用過(guò)的解決問(wèn)題的例子
        • 更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上
          更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上

          • 目的
            接觸
          • 行業(yè)
            半導(dǎo)體制造
          • 設(shè)備
            涂布機(jī)開(kāi)發(fā)商
          • 波長(zhǎng)
            365nm
          • 任務(wù)
            初始成本和運(yùn)行成本降低


        
            
        
            
		
        
    
         	
	
        

        




        
	
        
    	
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